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产品简介
用途①药液供给系统 CDS (Chemical Distribution System )②晶圆湿制程设备 (Wet Bench Process)
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技术文章
•药液供给系统 CDS (Chemical Distribution System )
•晶圆湿制程设备 (Wet Bench Process)
•单晶片清洗蚀刻机 (Single wafer clean)
•适用于各种化学品,支持薄膜前清洗(Clean)、蚀刻(Etching)、蚀刻后清洁和光阻剥离(Strip)等传统湿法制程,化学研磨设备。
•泵体与液体接触部分全部由超纯氟材料制成，耐化学腐蚀特性强，金属离子与颗粒等污染物析出量非常低。
•泵壳使用铝合金材质以增强壳体强度，并采用多层氧材料涂覆以增强防腐蚀能力。
•千级无尘车间流水线生产，产品一致性高，产品交付货期短。
•产品通过 ISO 认证。
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