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技术文章
•药液供给系统 CDS (Chemical Distribution System )
•晶圆湿制程设备 (Wet Bench Process)
•单晶片清洗蚀刻机 (Single wafer clean)
•适用于各种化学品,支持薄膜前清洗(Clean)、蚀刻(Etching)、蚀刻后清洁和光阻剥离(Strip)等传统湿法制程,化学研磨设备。
•泵体与液体接触部分全部由超纯氟材料制成，耐化学腐蚀特性强，金属离子与颗粒等污染物析出量非常低。
•泵壳使用铝合金材质以增强壳体强度，并采用多层氧材料涂覆以增强防腐蚀能力。
•千级无尘车间流水线生产，产品一致性高，产品交付货期短。
•产品通过 ISO 认证。
风囊泵在湿法腐蚀清洗设备中主要有以下应用：
(1)药液恒温控制：由风囊泵、循环溢流槽、阀门、过滤器、管件、热交换器，制冷机或加热器等组成温度控制系统。通过泵使药液循环并在热交换器内进行热交换用以实现药液的恒温控制。
(2)药液的循环过滤：由风囊泵、循环溢流槽、阀门、过滤器、管件等组成药液的循环过滤系统。实现药液的循环过滤，均匀流场。保证工艺槽药液温度和浓度的均匀性。
(3)废液回收和再利用：120℃以上强腐蚀性药液(如SPM)使用后废液如直接从工艺槽排至废液管道，由于温度高，将导致排液管道的损坏，引起安全事故，采用工艺槽内自然冷却的方法又耗时过长，影响生产效率。一般采用高温风囊泵将槽内药液输送至降温槽，在降温槽内降温后再排入排废管道，这种方法即节省了时间，又保证了生产的安全性，被业界所广泛采用。
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